(用于拋光和研磨的拋光粉) 多醇載體基含有特殊抗靜電劑的氧化鋁金屬研磨和拋光粉 獨特的優點 · 很好用于研磨和拋光工藝過程 · 提供非干性媒液 · 加速研磨作用 · 消除靜電放電現象 · 提供研磨和拋光化合物的有效顆粒大小分布,能滿足具體需求 · 拋光而光滑無痕 說明 氧化鋁型拋光粉—Polimet是將純氧化鋁粉末分散于多醇-水基液中制成的光學精整級懸浮液,里面加有抗靜電劑。分散介質中顆粒大小分布極窄。基本上不干的、多醇-水基的使用以及抗靜電劑的存在可以有效阻止金屬拋光過程中靜電的積累。此外,氧化鋁結晶結構的選擇可以保證快速的琢磨速率,而多醇-水基液則可保證拋光面光滑、無損無痕。 Polimet拋光粉建議用來拋光金屬、半導體、玻璃、高聚物材料等。使用氧化鋁型拋光粉Polimet-A、B和C可以得到質量極高的拋光產品,而Polimet D、E、F、G和H則適合用于琢磨和研磨過程。 氧化鋁型拋光粉Polimet 氧化鋁類型 | 微米大小 | 晶體結構 | 莫氏硬度 | 使用目的 | Polimet-A | 0.05 | 立方晶系 | 8 | 拋光 | Polimet-B | 0.3 | 六方晶系 | 9 | 拋光 | Polimet-C | 1.0 | 六方晶系 | 9 | 拋光 | Polimet-D | 5.0 | 六方晶系 | 9 | 研磨 | Polimet-E | 10.0 | 六方晶系 | 9 | 研磨 | Polimet-F | 15.0 | 六方晶系 | 9 | 研磨 | Polimet-G | 20.0 | 六方晶系 | 9 | 研磨 | Polimet-H | 25.0 | 六方晶系 | 9 | 研磨 |
注:除了對拋光各種材料所作的不同具體說明之外,金屬拋光一般應采用常規拋光步驟。 |