特別加工制備的電子級氧化鋁研磨化合物，它能滿足關(guān)鍵表面磨光和拋光的要求。 特點 · 具有六方晶系結(jié)構(gòu)的高純氧化鋁 · 有效的顆粒分布 · 快速研磨速率 · 超高拋光度 · 滿足ASTM標準的要求 重要應用范圍 用來磨光和拋光鍺、硅、金屬間化合物、瓷器、純粒鐵、激光晶體、光學玻璃棱鏡、塑料接觸棱鏡、窗口、不銹鋼和其他金相樣品。 說明 研磨和拋光產(chǎn)品Polmet是白色、純凈的六方晶系氧化鋁化合物。此化合物硬度極高（莫氏硬度）且粒度分布極為均勻。拋光粉Polmet在關(guān)鍵性研磨和拋光方面的性能是無與倫比的。 Polmet化合物以其顆粒大小而分級，并以成品形式供應，分別滿足各種具體的精確的要求。 級別 | 微米尺寸 | 應用 | Polmet-alpha（α） | 0.05 | 高度拋光 | Polmet-beta（β） | 0.3 | 高度拋光 | Polmet-gamma（γ） | 1 | 拋光 | Polmet-delta（δ） | 3 | 極細研磨 | Polmet-epsilon（ε） | 5 (2,500) | 細研磨 | Polmet-zeta（ζ） | 10 (1,250) | 研磨 | Polmet-eta（η） | 12 | 研磨 | Polmet-iota（ι） | 15 | 粗研磨 | Polmet-kappa （κ） | 20(600) | 粗研磨 | Polmet-lambda（λ） | 25 (500) | 粗研磨 | Polmet-mu（μ） | 30 (400) | 粗研磨 |
括號中注出的是相應的目數(shù)。 產(chǎn)品也以漿狀出售，見公報（Bulletin）116期：Polmet氧化鋁拋光粉 應用 Polmet氧化鋁以水漿、膏狀和油懸浮液等形式應用于磨光和拋光工藝工程。通常要使用標準布、塑料和專利磨光和拋光盤。 | 
