Transene-100

從半導(dǎo)體表面洗除外來物質(zhì)和污染物。

· 通過表面清洗穩(wěn)定半導(dǎo)體裝置

· 可以克服表面污染物引起的柔逆特性

· p-n結(jié)效率高

· 用于硅熱氧化和擴(kuò)散之前p-n結(jié)蝕刻之后的最終清洗過程

Transene-100是設(shè)計(jì)用于半導(dǎo)體工業(yè)提高p-n結(jié)裝置的質(zhì)量、效率和可靠性的一種新型化學(xué)產(chǎn)品。尤其適用于晶體管、二極管、檢波器和集成電路。Transene-100用于清洗出潔凈表面，從而保證半導(dǎo)體裝置的表面的穩(wěn)定性。

Transene-100的主要功能是洗除半導(dǎo)體表面存在的外來物質(zhì)，這些外來物質(zhì)可以是松弛的粘附在半導(dǎo)體上的外來物質(zhì)，也可以是其所吸收的電解質(zhì)或沉積金屬。這些外來物質(zhì)是為水、酒精、丙酮及其他溶劑所不能有效去除，甚或一點(diǎn)也不能去除的。而Transene-100則能有效破壞造成外來物質(zhì)牢固粘附的范德華力（van der Waals forces）。Transene-100還能有效去除吸收在半導(dǎo)體表面內(nèi)的外來物。一般說來，使用Transene-100可以消除絕大多數(shù)表面污染。然而此產(chǎn)品并不具備化學(xué)浸蝕作用，而且也沒人存有以其作為化學(xué)蝕刻劑的意向。

表面潔凈在半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)中具有特殊重要的意義。結(jié)點(diǎn)處外來物質(zhì)的存在可以造成局部高電壓。由于齊納隧道效應(yīng)引發(fā)電流，從而導(dǎo)致產(chǎn)生高反向電流。半導(dǎo)體表面即便有痕跡量離子、電解質(zhì)或金屬雜質(zhì)的存在都會(huì)使裝置的電學(xué)性能產(chǎn)生諸如滯后、顫振和高漏泄電流等嚴(yán)重問題。有源裝置表面上的流動(dòng)性離子將會(huì)影響裝置的最終可靠性，在高操作溫度下尤為如此。使用Transene-100可以產(chǎn)生以表面穩(wěn)定為特征的潔凈表面。

在蝕刻之后的使用。用Transene-100處理是完成于化學(xué)或電蝕刻之后，在烘烤、涂漆或p-n結(jié)裝置包封之前。

半導(dǎo)體裝置在蝕刻和沖洗之后，應(yīng)當(dāng)置入盛有其量足以覆蓋此裝置的Transene-100液的燒杯中，然后放在電熱板上加熱。再將裝置溫和地煮洗5分鐘后，將其從燒杯中取出。Transene-100將完全揮發(fā)掉，毫無殘跡存留。在此方面它要比水或其他常用溶劑純凈得多。半導(dǎo)體在用Transene-100處理之后，便可以進(jìn)行烘烤、涂漆和密封了。