說明 陰性光刻膠去除劑NRR-001是由芳香化合物組成的,使用方便的低PH值去除劑。NRR-001可去除烘烤在各種基體上(如砷化鎵、硅、鉻等)普通陰性光刻膠。使用得當時它對于各種金屬及氧化物表面無腐蝕作用。NRR-001不浸蝕聚酰亞胺。 NRR-001去除劑不含磷酸鹽、鉻酸鹽、苯酚和氯代烴。NRR-001在室溫或加溫條件下性能良好,槽液使用期長。如果貯放在避光的陰涼地方。其有效期可達一年之久。 化學性質和物理性質 外觀 | 具有芳香氣味的紅色液體 | 比重(68℉) | 0.95-1.05 | 有效期 | 1年 | PH(68℉) | <2 |
應用 槽液組成——對所有半導體操作都是全強度,噴涂或浸泡 沖洗——用芳香物溶劑作必要的沖洗 槽液壽命——當去除光刻膠操作時間超過15分鐘時,要更換槽液。 使用——NRR-001廣泛用于PC板、鉻光掩膜、薄膜和混合集成電路及MCM裝置。也可以用來去除油、墨水及其它有機物。 |