砷化鎵蝕刻劑
說明
砷化鎵蝕刻劑可以對砷化鎵以三元化合物如砷化鎵銦和砷化鋁鎵等進行各向同性及各向異性的蝕刻。和二氧化硅光掩膜聯(lián)用可以得到清晰和均勻的蝕刻效果。
共提供三個蝕刻劑體系。其中GA蝕刻劑100是快速的各項同性蝕刻劑。GA蝕刻劑200是可最佳控制的堿性各項異性蝕刻劑。GA蝕刻劑300具有更大的通用性、更寬的光刻膠匹配性的更長的貯存時間限制。所有GA蝕刻劑都應在溫度較低的條件下貯存。
性質
性質 | GA蝕刻劑100 | GA蝕刻劑200 | GA蝕刻劑300 |
外觀 | 無色澄清液體 | 無色澄清液體 | 無色澄清液體 |
PH | <2 | >10 | 6-7 |
貯存溫度 | 40-50℉ | 40-50℉ | 40-50℉ |
有效期 | 3個月 | 2個月 | 3個月 |
蝕刻速率 | 100nm/秒,40℃ | 20 ? /秒,5℃ | 22 ? /秒,25℃ |
化學 | 硫酸-過氧化物 | 氫氧化物-過氧化物 | 檸檬酸-過氧化物 |
應用
GA蝕刻劑可用于Pyrex,HDPE,聚四氟乙烯或其他罐裝材料。表面光滑程度由攪拌速度控制。其中GA蝕刻劑100是由硫酸/過氧化氫組成,而GA蝕刻劑200是氫氧化銨和過氧化氫的混合物,GA蝕刻劑300用溫和的檸檬酸-過氧化氫配方以達到更為通用的目的。
Transene公司的專利穩(wěn)定劑的使用使得本產品比一般的過氧化物產品能在更長時間期限內獲得均勻的蝕刻效果。
所有
GA蝕刻劑皆由高純材料制成,其原料為ACS試劑和1018莫姆·cm電阻的去離子水管。